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ICP-OES MICS DV電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀
所屬分類(lèi)：
產(chǎn)品概述
PRODUCT OVERVIEW
電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是目前實(shí)驗(yàn)室無(wú)機(jī)元素分析的主流手段，具有測(cè)試元素 多、測(cè)試速度快、檢出下限低、測(cè)量范圍寬等特點(diǎn)，可廣泛應(yīng)用于環(huán)境保護(hù)、地質(zhì)礦產(chǎn)、有 色金屬、石油化工、新能源新材料、高純物質(zhì)、玩具消費(fèi)品、食品化妝品等眾多領(lǐng)域，產(chǎn)品 檢測(cè)方法多為國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)可的測(cè)試方法。
技術(shù)參數(shù)
TECHNICAL PARAMETER
霧化器：高效同心霧化器
霧室：霧室為旋流型霧室
炬管：配備電感線圈為3匝的垂直放置的一體式炬管
蠕動(dòng)泵：配備5通道16滾軸蠕動(dòng)泵，分別用于樣品、廢液、內(nèi)標(biāo)或稀釋劑、氫化物發(fā)生器等輔助試劑,泵速連續(xù)可調(diào)，具有快速清洗功能；蠕動(dòng)泵滾輪采用非金屬耐腐蝕材料。
氣路：氣路部分均采用流量計(jì)控制，流量連續(xù)可調(diào)；同時(shí)可擴(kuò)展氧氣輔助有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)，防止碳沉積；可擴(kuò)展Ar，實(shí)現(xiàn)氬氣加濕功能，氬氣消耗量：8L/min～18L/min；冷卻氣：0.00L/min～20.00L/min，精度0.01L/min；輔助氣：0.00L/min～2.00L/min，精度0.01L/min；載氣：0.00L/min～2.00L/min，精度0.01L/min
具有固態(tài)光源技術(shù)，頻率27.12MHz，它激式全固態(tài)RF發(fā)生器，功率500～1600W步進(jìn)1W連續(xù)可調(diào)，耦合效率＞85%，功率穩(wěn)定性≤0.01%，RF頻率穩(wěn)定性：≤0.01%；一鍵式點(diǎn)火、熄火操作；電磁場(chǎng)泄露輻射強(qiáng)度：＜0.5V/m。
等離子體源具備冷錐消除尾焰技術(shù)，無(wú)需配置空氣壓縮機(jī)進(jìn)行尾焰切割，可最大程度地降低自吸效應(yīng)和電離干擾。
等離子體源具有低功率待機(jī)模式，待機(jī)時(shí)降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行。
垂直炬管，雙向觀測(cè)；徑向觀測(cè)與軸向觀測(cè)設(shè)計(jì)，可適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測(cè)量。
光柵：中階梯光柵，52.67g/mm，閃耀角63.5°
棱鏡：采用超純CaF2材料
分析譜線范圍：165nm～950nm
焦距：400mm
分辨率：≤0.007nm@200nm
雜散光：10000μg/ml的Ca溶液在As189.042nm處的等效背景濃度＜2ug/ml
光室恒溫：高精度恒溫38℃（±0.1℃）
光室充氣：多點(diǎn)充氣技術(shù)，小流量吹掃1L/min，大流量吹掃4L/min；無(wú)需使用真空泵，可避免真空返油從而污染光室。
只需要使用背景光譜即可完成譜線飄移校準(zhǔn)，無(wú)需額外的氖燈、汞燈等光源設(shè)備。
采用半導(dǎo)體制冷的大面積背照式CCD檢測(cè)器，能任意選擇波長(zhǎng)，全譜段響應(yīng)，且具有防溢出功能設(shè)計(jì)。
檢測(cè)器表面無(wú)任何光轉(zhuǎn)換化學(xué)涂膜，不會(huì)因?yàn)橥繉永匣鴮?dǎo)致檢測(cè)器損壞更換；量子化效率≥75%。
檢測(cè)單元：像面尺寸：25.4mm×25.4mm；CCD像素：1024×1024；單像素面積：24μm ×24μm；一次曝光可完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取。
冷卻系統(tǒng)：三級(jí)半導(dǎo)體制冷，制冷溫度：≤-45℃，穩(wěn)定時(shí)間＜3分鐘
智能化積分設(shè)計(jì)：針對(duì)低含量的元素和高含量元素智能調(diào)整積分時(shí)間，拓寬動(dòng)態(tài)范圍，使高低含量元素可以同時(shí)檢測(cè)，避免試樣反復(fù)稀釋。
分析軟件：全中文界面，支持中、英、俄等多種語(yǔ)言，針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng)。具有定性、半定量、定量等分析功能。
多窗口多方法分析程序，可同時(shí)測(cè)量、編輯、查看不同的方法數(shù)據(jù)。
軟件譜線庫(kù)：≥7萬(wàn)譜線庫(kù)，智能提示潛在干擾元素，幫助使用者合理選擇分析譜線
軟件提供多樣化的標(biāo)準(zhǔn)系列編輯模式，支持先測(cè)試后設(shè)置標(biāo)準(zhǔn)、“三明治”方法測(cè)試樣品等多種曲線校準(zhǔn)模式。
軟件支持標(biāo)準(zhǔn)曲線法、標(biāo)準(zhǔn)加入法等分析方法，具有扣除空白、內(nèi)標(biāo)校正、IEC干擾校正等多種數(shù)據(jù)處理方法。
具有多種報(bào)表輸出格式。
具有儀器校準(zhǔn)功能，支持光源優(yōu)化等功能。
具有登錄口令保護(hù)功能。
儀器性能要求：短期穩(wěn)定性：RSD≤0.5%；長(zhǎng)期穩(wěn)定性：RSD≤1.0%。
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